CVD SiC Dutxa Burua

Ziur egon zaitezke gure fabrikatik CVD SiC dutxa-burua erostea. VeTek Semiconductor CVD SiC Dutxa Burua silizio karburo solidoz (SiC) eginda dago, lurrun-deposizio kimikoko (CVD) teknika aurreratuak erabiliz. SiC bere eroankortasun termiko, erresistentzia kimiko eta erresistentzia mekanikoagatik aukeratzen da, CVD SiC Dutxa Burua bezalako bolumen handiko SiC osagaietarako aproposa.

Produktuaren errendimendua eta abantailak:

Erdieroaleen fabrikaziorako diseinatua, CVD SiC Dutxa Buruak tenperatura altuak eta plasma prozesatzea jasaten ditu. Bere gas-fluxuaren kontrol zehatzak eta materialaren propietate bikainak prozesu egonkorrak eta epe luzerako fidagarritasuna bermatzen ditu. CVD SiC erabiltzeak kudeaketa termikoa eta egonkortasun kimikoa hobetzen ditu, produktu erdieroaleen kalitatea eta errendimendua hobetuz.

Bezeroen beharrei erantzutea:

CVD SiC Dutxa Buruak hazkunde epitaxialaren eraginkortasuna hobetzen du prozesuko gasak uniformeki banatuz eta ganbera kutsaduratik babestuz. Erdieroaleen fabrikazioko erronkak modu eraginkorrean konpontzen ditu, hala nola tenperatura kontrola, egonkortasun kimikoa eta prozesuen koherentzia, bezeroei irtenbide fidagarriak eskainiz.

Aplikazioaren eszenatokiak:

MOCVD sistemetan, Si epitaxian eta SiC epitaxietan erabiltzen dena, CVD SiC Shower Head-ak kalitate handiko erdieroaleen gailuen ekoizpena onartzen du. Bere eginkizun kritikoak prozesuen kontrol eta egonkortasun zehatza bermatzen du, errendimendu handiko eta fidagarriak diren produktuetarako bezeroen eskakizun anitzak betetzen ditu.

CVD SiC Dutxa Buruaren produktuaren parametroa:

Ekoizpen Denda