Txina MOCVD Teknologia Fabrikatzailea, Hornitzailea, Fabrika

VeTek Semiconductor-ek abantaila eta esperientzia ditu MOCVD Teknologia ordezko piezen arloan.

MOCVD, Metal-Organic Chemical Vapor Deposition izen osoa (metal-organic Chemical Vapor Deposition), metal-organiko-lurrun-fasearen epitaxia ere dei daiteke. Konposatu organometalikoak metal-karbono loturak dituzten konposatu klase bat dira. Konposatu hauek gutxienez lotura kimiko bat dute metal baten eta karbono atomo baten artean. Konposatu metal-organikoak aitzindari gisa erabili ohi dira eta substratuan film meheak edo nanoegiturak sor ditzakete deposizio-teknika ezberdinen bidez.

Metal-organiko kimiko lurrun-deposizioa (MOCVD teknologia) hazkuntza epitaxialaren teknologia ohikoa da, MOCVD teknologia oso erabilia da erdieroaleen laser eta ledak fabrikatzeko. Batez ere ledak fabrikatzean, MOCVD galio nitruroa (GaN) eta erlazionatutako materialak ekoizteko funtsezko teknologia da.

Epitaxia bi forma nagusi daude: fase likidoaren epitaxia (LPE) eta lurrun fasearen epitaxia (VPE). Gas-fasearen epitaxia lurrun-deposizio kimiko-organiko metalikoan (MOCVD) eta izpi molekularren epitaxia (MBE) bereiz daitezke.

Atzerriko ekipamenduen fabrikatzaileak Aixtronek eta Veecok ordezkatzen dituzte batez ere. MOCVD sistema laserrak, ledak, osagai fotoelektrikoak, potentzia, RF gailuak eta eguzki-zelulak fabrikatzeko funtsezko ekipamenduetako bat da.

Gure enpresak fabrikatutako MOCVD teknologiako ordezko piezen ezaugarri nagusiak:

1) Dentsitate handia eta kapsulatze osoa: grafitoaren oinarria, oro har, tenperatura altuan eta lan-ingurune korrosiboan dago, gainazala guztiz bilduta egon behar da eta estaldurak dentsifikazio ona izan behar du babes rol ona izateko.

2) Gainazaleko lautasun ona: kristal bakarreko hazkuntzarako erabiltzen den grafitoaren oinarriak gainazaleko lautasun oso handia behar duelako, estaldura prestatu ondoren oinarriaren jatorrizko lautasuna mantendu behar da, hau da, estaldura geruza uniformea izan behar du.

3) Lotura-indarra ona: Murriztu grafito-oinarriaren eta estaldura-materialaren arteko hedapen termikoaren koefizientearen aldea, eta horrek bien arteko lotura-indarra hobetu dezake, eta estaldura ez da erraza pitzatzen tenperatura altuko eta baxuko beroa jasan ondoren. zikloa.

4) Eroankortasun termiko handia: kalitate handiko txiparen hazkundeak grafitoaren oinarriak bero azkarra eta uniformea ematea eskatzen du, beraz, estaldura-materialak eroankortasun termiko handia izan behar du.

5) Urtze-puntu altua, tenperatura altuko oxidazio-erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia: estaldurak tenperatura altuko eta lan-ingurune korrosiboetan egonkor funtzionatzeko gai izan behar du.

Jarri 4 hazbeteko substratua
LED hazteko epitaxia urdin-berdea
Erreakzio-ganberan kokatuta
Ostiarekin harreman zuzena Jarri 4 hazbeteko substratua
UV LED film epitaxiala hazteko erabiltzen da
Erreakzio-ganberan kokatuta
Ostiarekin harreman zuzena Veeco K868/Veeco K700 Makina
LED epitaxia zuria/LED epitaxia urdin-berdea VEECO ekipoetan erabiltzen da
MOCVD Epitaxirako
SiC estaldura susceptor Aixtron TS Ekipamendua
Epitaxia Ultramore sakona
2 hazbeteko substratua Veeco Ekipamendua
LED Gorri-Horia Epitaxia
4 hazbeteko obleen substratua TaC estalitako susceptor
(SiC Epi/ UV LED hargailua) SiC estalitako susceptor
(ALD/ Si Epi/ LED MOCVD susceptor)

View as

SiC Estaldura grafitoa MOCVD berogailua

VeTeK Semiconductor-ek SiC Coating grafitozko MOCVD berogailuak ekoizten ditu, hau da, MOCVD prozesuko funtsezko osagaia. Garbitasun handiko grafitoko substratu batean oinarrituta, gainazala purutasun handiko SiC estalduraz estalita dago, tenperatura altuko egonkortasun eta korrosioarekiko erresistentzia bikaina emateko. Kalitate handiko eta oso pertsonalizatutako produktuen zerbitzuekin, VeTeK Semiconductor-en SiC Coating grafito MOCVD berogailua aukera ezin hobea da MOCVD prozesuaren egonkortasuna eta film mehearen deposizioaren kalitatea bermatzeko. VeTeK Semiconductor zure bikotekidea izatea espero du.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

Silizio-karburoa estalitako Epi susceptor

VeTek Semiconductor Txinan SiC estaldura produktuen fabrikatzaile eta hornitzaile liderra da. VeTek Semiconductor-en SiC estalitako Epi susceptor-ek industriaren kalitate-maila gorena du, hazkuntza epitaxial-labeen estilo anitzeko egokia da eta oso pertsonalizatutako produktuen zerbitzuak eskaintzen ditu. VeTek Semiconductor-ek zure epe luzerako bazkide bihurtzea espero du Txinan.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

MOCVDrako SiC estalitako satelite-estalkia

Txinan MOCVD produktuetarako SiC estalitako Satelite-estalkiaren fabrikatzaile eta hornitzaile nagusi gisa, Vetek Semiconductor-ek MOCVD produktuentzako SiC estalitako Satelite-estalkiak muturreko tenperatura altuko erresistentzia, oxidazio-erresistentzia bikaina eta korrosioarekiko erresistentzia bikaina ditu, eta kalitate handiko epitaxia bermatzeko paper ordezkaezina du. obleetan haztea. Ongi etorri zure kontsulta gehiago.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

CVD SiC estalitako ostia upel euskarria

CVD SiC estalitako ostia Barrilaren euskarria hazkunde epitaxialaren labearen funtsezko osagaia da, MOCVD hazkuntza epitaxialaren labeetan oso erabilia. VeTek Semiconductor-ek oso pertsonalizatutako produktuak eskaintzen dizkizu. Ez dio axola zeintzuk diren zure beharrak CVD SiC estalitako ostia upelaren euskarria, Ongi etorri gurekin kontsultatzera.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

CVD SiC Estaldura Wafer Epi Susceptor

VeTek Semiconductor CVD SiC estaldura ostia Epi susceptor SiC epitaxia hazteko ezinbesteko osagaia da, kudeaketa termikoa, erresistentzia kimikoa eta egonkortasun dimentsionala eskaintzen dituena. VeTek Semiconductor-ren CVD SiC estaldura ostia Epi susceptor aukeratuz gero, zure MOCVD prozesuen errendimendua hobetzen duzu, kalitate handiagoko produktuak eta eraginkortasun handiagoa lortuz erdieroaleen fabrikazio-eragiketetan. Ongi etorri zure kontsulta gehiago.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

CVD SiC estaldura grafito suszeptorea

VeTek Semiconductor CVD SiC estaldura grafitoaren suszeptorea erdieroaleen industriako osagai garrantzitsuenetako bat da, hala nola hazkunde epitaxiala eta obleen prozesamendua. MOCVD eta beste ekipo batzuetan erabiltzen da obleak eta doitasun handiko beste materialak prozesatu eta manipulatzeko. VeTek Semiconductor Txinako SiC estalitako grafito susceptor eta TaC estalitako grafito susceptor produkzio eta fabrikazio gaitasunak ditu, eta zure kontsulta espero du.

Irakurri gehiago Bidali kontsulta

<1 2 3 4 5 >

Txinan MOCVD Teknologia fabrikatzaile eta hornitzaile profesional gisa, gure fabrika dugu. Zure eskualdeko behar zehatzei erantzuteko zerbitzu pertsonalizatuak behar dituzun edo Txinan egindako MOCVD Teknologia aurreratu eta iraunkorra erosi nahi baduzu, mezu bat utz diezagukezu.