ALD Fused Quartz idulkia

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestalak erdieroaleen fabrikazio prozesuan funtsezko zeregina du euskarri egitura gisa.kuartzozko itsasontzia, eusteko erabiltzen denaostia. Fused Quartz Pedestal-ek filmaren deposizio uniformea ​​lortzen laguntzen du tenperatura egonkorra mantenduz, eta horrek gailu erdieroaleen errendimenduan eta fidagarritasunean zuzenean eragiten du. Gainera, Quartz Pedestal-ek beroaren eta argiaren banaketa uniformea ​​bermatzen du prozesu-ganberan, eta horrela, deposizio-prozesuaren kalitate orokorra hobetzen du.

ALD Fused Quartz Pedestal Material Abantailak

Tenperatura Handiko Erresistentzia: Kuartzo fusionatutako idulkiaren leuntze-puntua 1730 °C ingurukoa da, eta 1100 °C eta 1250 °C arteko tenperatura altuko funtzionamendua jasan dezake denbora luzez, eta muturreko tenperatura-inguruneetara 1450 °C arte jasan daiteke. denbora laburrean.

Korrosioarekiko Erresistentzia Bikaina: Kuartzoa fusionatutako kuartzoa oso kimikoki inertea da ia azido guztiekin, azido fluorhidrikoa izan ezik. Bere azidoaren erresistentzia zeramika baino 30 aldiz handiagoa da eta altzairu herdoilgaitza baino 150 aldiz handiagoa. Fusionatutako kuartzoak kimikoki ez du pareko tenperatura altuetan, eta material ezin hobea da prozesu kimiko konplexuetarako.

Egonkortasun termikoa: Fused Quartz Pedestal materialaren ezaugarri nagusi bat bere hedapen termikoaren koefiziente oso baxua da. Horrek esan nahi du tenperatura-gorabehera izugarriak erraz kudeatu ditzakeela pitzatu gabe. Esaterako, silize-kuartzoa azkar berotu daiteke 1100 °C-ra eta zuzenean ur hotzetan murgil daiteke kalterik gabe, ezaugarri garrantzitsua tentsio handiko fabrikazio baldintzetan.

Fabrikazio-prozesu zorrotza: Fusionatutako silizezko idulkien ekoizpen-prozesuak kalitate-estandarrak zorrotz betetzen ditu. Ekoizpen-prozesuak bero-konformazio eta soldadura-prozesuak erabiltzen ditu, normalean 10.000 klaseko gela garbiko ingurune batean egiten direnak. Ondoren, kuartzozko beirazko idulkia ondo garbitzen da ur ultrapuruarekin (18 MΩ) produktuaren garbitasuna eta errendimendu optimoa bermatzeko. Amaitutako produktu bakoitza zorroztasunez ikuskatu, garbitu eta 1.000 klaseko edo goragoko gela garbi batean ontziratzen da erdieroaleen industriaren estandar altuak betetzeko.

Garbitasun handiko silize kuartzozko material opakua

VeTeksemi ALD Fused Quartz Pedestal-ek purutasun handiko kuartzozko material opakua erabiltzen du beroa eta argia modu eraginkorrean isolatzeko. Bere beroaren babes eta argiaren babes-ezaugarri bikainak prozesu-ganberan tenperatura-banaketa uniformea ​​mantentzea ahalbidetzen du, mehearen uniformetasuna eta koherentzia bermatuz.filmaren deposizioaoblearen gainazalean.

Aplikazio-eremuak

Fusionatutako kuartzozko idulkiak erdieroaleen industriako alor askotan oso erabiliak dira errendimendu bikainagatik. urteanGeruza atomikoaren deposizio-prozesua (ALD)., filmaren hazkuntzaren kontrol zehatza onartzen du eta gailu erdieroaleen aurrerapena bermatzen du. urteanpresio baxuko lurrun-deposizio kimikoa (LPCVD) prozesua, purutasun handiko kuartzozko idulkiaren egonkortasun termikoa eta argi babesteko gaitasunak film meheen jalkipen uniformerako bermeak eskaintzen ditu, horrela gailuaren errendimendua eta etekina hobetuz.

Horrez gain, difusio oblearen prozesuan, Fused Quartz Pedestalaren tenperatura altuko erresistentzia eta korrosio kimikoaren erresistentzia material erdieroaleen dopatze prozesuaren fidagarritasuna eta koherentzia bermatzen dira. Funtsezko prozesu hauek gailu erdieroaleen errendimendu elektrikoa zehazten dute, eta kalitate handiko Fused Quartz materialek ezinbesteko zeregina dute prozesu horien emaitzarik onenak lortzeko.

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal dendak: