CVD SiC Focus Eraztuna

VeTek Semiconductor CVD SiC foku-eraztunen etxeko fabrikatzaile eta hornitzaile nagusia da, erdieroaleen industriarako errendimendu handiko eta fidagarritasun handiko produktuen irtenbideak eskaintzera dedikatzen dena. VeTek Semiconductor-ren CVD SiC foku-eraztunek lurrun-deposizio kimiko aurreratua (CVD) teknologia erabiltzen dute, tenperatura altuko erresistentzia, korrosioarekiko erresistentzia eta eroankortasun termiko bikainak dituzte eta erdieroaleen litografia prozesuetan oso erabiliak dira. Zure kontsultak beti ongi etorriak dira.

Bidali kontsulta

Produktuaren Deskribapena

Gailu elektroniko modernoen eta informazioaren teknologiaren oinarri gisa, erdieroaleen teknologia gaur egungo gizartearen ezinbesteko zati bihurtu da. Smartphoneetatik hasi eta ordenagailuetara, komunikazio-ekipoetara, ekipamendu medikoetara eta eguzki-zeluletara, ia teknologia moderno guztiak gailu erdieroaleen fabrikazioan eta aplikazioan oinarritzen dira.

Gailu elektronikoen integrazio funtzionalaren eta errendimenduaren eskakizunak gero eta handiagoak direnez, erdieroaleen prozesuen teknologia ere etengabe garatzen eta hobetzen ari da. Erdieroaleen teknologiaren oinarrizko lotura gisa, grabaketa prozesuak zuzenean zehazten ditu gailuaren egitura eta ezaugarriak.

Grabaketa prozesua erdieroalearen gainazaleko materiala zehaztasunez kentzeko edo doitzeko erabiltzen da, nahi den egitura eta zirkuitu eredua osatzeko. Egitura hauek gailu erdieroaleen errendimendua eta funtzionaltasuna zehazten dituzte. Grabaketa-prozesuak nanometro-mailako zehaztasuna lortzeko gai da, eta hori dentsitate handiko eta errendimendu handiko zirkuitu integratuak (IC) fabrikatzeko oinarria da.

CVD SiC Focus Ring grabaketa lehorreko osagai nagusi bat da, batez ere plasma fokatzeko erabiltzen dena obleen gainazalean dentsitate eta energia handiagoa izan dezan. Gasa uniformeki banatzeko funtzioa du. VeTek Semiconductor-ek SiC geruzaz geruza hazten du CVD prozesuaren bidez eta azkenean CVD SiC Focus Ring lortzen du. Prestatutako CVD SiC Focus Ring-ak ezin hobeto bete ditzake grabaketa-prozesuaren baldintzak.

CVD SiC Focus Ring working diagram

CVD SiC Focus Ring bikaina da propietate mekanikoetan, propietate kimikoetan, eroankortasun termikoan, tenperatura altuko erresistentzian, ioi-grabatzeko erresistentzian, etab.

● Dentsitate handiak grabatzeko bolumena murrizten du

● Banda-hutsune handia eta isolamendu bikaina

● Eroankortasun termiko handia, hedapen koefiziente baxua eta kolpe termikoen erresistentzia

● Elastikotasun handia eta kolpe mekanikoen erresistentzia ona

● Gogortasun handia, higadura erresistentzia eta korrosioarekiko erresistentzia

VeTek Semiconductor-ek Txinan CVD SiC Focus Ring prozesatzeko gaitasun nagusiak ditu. Bien bitartean, VeTek Semiconductor-en talde tekniko helduak eta salmenta taldeak bezeroei foku eraztun produktu egokienak eskaintzen laguntzen diegu. VeTek erdieroalea aukeratzeak mugak gainditzeko konpromisoa duen enpresa batekin elkartzea dakarCVD silizio-karburoa berrikuntza.

Kalitateari, errendimenduari eta bezeroaren gogobetetzeari garrantzia handia emanez, erdieroaleen industriaren eskakizun zorrotzak betetzen ez ezik gainditzen dituzten produktuak eskaintzen ditugu. Lagundu iezaguzu zure eragiketetan eraginkortasun, fidagarritasun eta arrakasta handiagoa lortzen gure CVD silizio-karburo soluzio aurreratuekin.

CVD SIC FILMAREN SEM DATUAK

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM

CVD SiC estalduraren oinarrizko propietate fisikoak

CVD SiC estalduraren oinarrizko propietate fisikoak
Jabetza	Balio Tipikoa
Kristalezko Egitura	FCC β fase polikristalinoa, nagusiki (111) orientatua
SiC estaldura Dentsitatea	3,21 g/cm³
SiC estaldura Gogortasuna	2500 Vickers gogortasuna (500 g karga)
Ale Tamaina	2~10μm
Garbitasun kimikoa	%99,99995
Bero Ahalmena	640 J·kg^-1·K^-1
Sublimazio-tenperatura	2700 ℃
Flexur Indarra	415 MPa RT 4 puntu
Gazteen Modulua	430 Gpa 4pt bihurgunea, 1300 ℃
Eroankortasun termikoa	300W·m^-1·K^-1
Hedapen termikoa (CTE)	4,5×10^-6K^-1