Zein da CVD TaC eta TaC sinterizatuaren arteko aldea?

1. Zer da tantalio karburoa?

Tantalo karburoa (TaC) tantalioz eta karbonoz osatutako konposatu bitar bat da, TaCX formula enpirikoa duena, non X normalean 0,4 eta 1 arteko tartean aldatzen den. Oso gogor eta hauskorrak diren material zeramikazko eroale metaliko erregogorrak dira. Hauts marroi-grisak dira, normalean sinterizatuak. Metal zeramikazko material garrantzitsu gisa, tantalio-karburoa komertzialki erabiltzen da ebaketa-tresnetarako eta batzuetan tungsteno-karburoko aleazioei gehitzen zaie.

1. Irudia Tantalo Karburoko Lehengaiak

Tantalo karburoaren zeramika tantalio karburoaren zazpi fase kristalino dituen zeramika da. Formula kimikoa TaC da, aurpegian zentratutako sare kubikoa.

2. irudia.Tantalo karburoa - Wikipedia

Dentsitate teorikoa 1,44 da, urtze-puntua 3730-3830 ℃ da, hedapen termikoaren koefizientea 8,3 × 10-6 da, modulu elastikoa 291GPa da, eroankortasun termikoa 0,22 J/cm·S·C da, eta tantalio karburoaren gailurra urtze-puntua inguruan dago. 3880 ℃, garbitasun eta neurketa baldintzen arabera. Balio hau konposatu bitarren artean altuena da.

3. irudia.Tantalo-karburoaren lurrun-jarrera kimikoa TaBr5&ndash-en

2. Zenbaterainokoa da tantalio karburoa?

Lagin batzuen Vickers gogortasuna, hausturaren gogortasuna eta dentsitate erlatiboa probatuz, TaC-k propietate mekaniko onenak dituela zehaztu daiteke 5.5GPa eta 1300 ℃-tan. TaC-ren dentsitate erlatiboa, hausturaren gogortasuna eta Vickers gogortasuna % 97,7, 7,4MPam1/2 eta 21,0GPa dira hurrenez hurren.

Tantalo karburoa tantalio karburo zeramika ere deitzen zaio, zentzu zabalean zeramikazko material mota bat dena;tantalio karburoa prestatzeko metodoen artean daudeCVDmetodo, sinterizazio metodo, etab. Gaur egun, CVD metodoa erdieroaleetan erabili ohi da, garbitasun handiko eta kostu handikoa.

3. Tanto karburo sinterizatuaren eta CVD tantalio karburoaren arteko konparaketa

Erdieroaleen prozesatzeko teknologian, tantalio-karburo sinterizatua eta lurrun-deposizio kimikoa (CVD) tantalio-karburoa bi metodo ohikoak dira, prestaketa-prozesuan, mikroegituran, errendimenduan eta aplikazioan desberdintasun handiak dituztenak.

3.1 Prestaketa prozesua

Tantalo karburo sinterizatua: tantalio karburo hautsa tenperatura altuan eta presio altuan sinterizatu egiten da forma bat osatzeko. Prozesu honek hautsaren dentsifikazioa, aleak haztea eta ezpurutasunak kentzea dakar.

CVD tantalio karburoa: tantalio karburoaren aitzindari gaseosoa berotutako substratuaren gainazalean kimikoki erreakzionatzeko erabiltzen da, eta tantalio karburoaren filma geruzaz geruza jartzen da. CVD prozesuak filmaren lodiera kontrolatzeko gaitasun ona eta konposizioaren uniformetasuna ditu.

3.2 Mikroegitura

Tanto karburo sinterizatua: Orokorrean, ale-tamaina eta poro handiak dituen egitura polikristalinoa da. Bere mikroegiturak sinterizazio tenperatura, presioa eta hautsaren ezaugarriak bezalako faktoreek eragiten dute.

CVD tantalio-karburoa: normalean, ale-tamaina txikiko film polikristalino trinkoa da eta hazkuntza oso orientatua lor dezake. Filmaren mikroegituran jalkitze-tenperatura, gas-presioa eta gas-fasearen konposizioa bezalako faktoreek eragiten dute.

3.3 Errendimendu-desberdintasunak

4. Irudia. Sintered TaC eta CVD TaC-ren arteko errendimendu-desberdintasunak

3.4 Aplikazioak

Tanto karburo sinterizatua: Indar handia, gogortasun handia eta tenperatura altuko erresistentzia dela eta, oso erabilia da ebaketa-tresnetan, higadura-erresistentzian dauden piezetan, tenperatura altuko egitura-materialetan eta beste esparru batzuetan. Adibidez, tantalio karburo sinterizatua ebaketa-erremintak fabrikatzeko erabil daiteke, hala nola zulagailuak eta fresak, prozesatzeko eraginkortasuna eta piezen gainazaleko kalitatea hobetzeko.

CVD tantalio-karburoa: Film mehearen propietateak, atxikimendu ona eta uniformetasuna direla eta, oso erabilia da gailu elektronikoetan, estaldura-materialetan, katalizatzaileetan eta beste esparru batzuetan. Esate baterako, CVD tantalio karburoa zirkuitu integratuetarako, higadura-erresistentziarako estaldurak eta katalizatzaile-eramaileetarako interkonexio gisa erabil daiteke.

-------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------

VeTek Semiconductor tantalio karburoko estaldura fabrikatzaile, hornitzaile eta fabrika gisa, erdieroaleen industriarako tantalio karburoko estaldura materialen fabrikatzaile nagusia da.

Gure produktu nagusiak hauek diraCVD tantalio karburo estalitako piezak, SiC kristalen hazkuntzarako edo erdieroaleen epitaxia prozesuetarako TaC estalitako pieza sinterizatuak. Gure produktu nagusiak dira tantaliozko karburo estalitako gida-eraztunak, TaC estalitako gida-eraztunak, TaC estalitako ilargi erdiko piezak, tantalio-karburozko estalitako gida-eraztunak (Aixtron G10), TaC estalitako arragoa; TaC estalitako eraztunak; TaC Estalitako Grafito Porotsua; Tantalo Karburo Estalitako Grafito Susceptors; TaC estalitako gida eraztunak; TaC tantalio karburo estalitako plakak; TaC estalitako obleen susceptorrak; TaC estalitako grafito tapoiak; TaC estalitako blokeak, etab., 5 ppm baino gutxiagoko purutasuna bezeroen eskakizunak betetzeko.

5. irudia. VeTek Semiconductor-en TaC estaldura beroko produktuak

VeTek Semiconductor-ek tantalio karburoaren estalduraren industrian berritzaile bihurtzeko konpromisoa hartu du teknologia iteratiboen etengabeko ikerketa eta garapenaren bidez. 

TaC produktuetan interesa baduzu, jar zaitez gurekin harremanetan zuzenean.

Telefonoa: +86-180 6922 0752

WhatsApp: +86 180 6922 0752

Posta elektronikoa: anny@veteksemi.com